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近常压X射线光电子能谱(NAP-XPS)

介绍:

近常压X射线光电子能谱可以实现在更接近于实际操 作条件(气固、固液以及电化学反应)的环境中进行固体 表面电子结构动态变化的原位XPS分析,对样品表面的化 学状态进行实时表征,获得表面化学状态,组分及电子结 构等动态变化信息,从而进行物质表面成分及价态的定性 及半定量分析。

仪器位置:

54- E115

型号:

NAP-XPS Backfilling

厂家:

SPECS

微聚焦单色化X射线源:单色化Al阳极靶,光斑尺寸≤200μm;

电子能量分析器:能量分辨率10 meV,四级差分抽气系统,工作压力最大25 mbar;

近常压进气管路系统: 6路进气,自动压力控制1-30 mbar

蒸汽进气系统:专门用于通入液体蒸汽,蒸汽质量流量

范围:0.5-50 mL/min;

四轴全自动样品架:红外激光加热器:25 mbar N2条件下,温度最高1000℃;液氮冷却装置:最低温度150K;

产物气体分析质谱仪:质量范围1-200 amu;

原位动态电化学反应池:三电极和两个电解液管道,固液界面电化学反应实时测试,气压范围2-1000 mbar;

 

NAP-XPS可以在真实的反应条件下对多相催化、能源生产和储存、生物医药或环境科学等多个应用领域中发生在固体-气体或固体-液体界面的催化、腐蚀、氧化 等多种基本过程进行原位分析和研究。